产品中心
泰龙电子
产品描述
原子层沉积设备
型号：TLE-AL200S
参数：
反应室：不锈钢反应腔室，含样品台，高度＜50mm
真空系统：含油泵、真空计（全量程规）
气体流量控制系统：含高精度进口流量计（两路氮气）
控制系统：含硬件控制器、温度控制器和工艺过程控制软件，一键停止
操作电脑：预装windows系统和工艺过程控制软件的笔记本电脑一台
前驱体源输运系统：每路配一套50ml钢瓶、一个气动阀和一个手动阀
机架：铝型材机架，喷漆面板
其他：含取样夹具等标准附件
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产品描述
原子层沉积设备
型号：TLE-AL200S
参数：
反应室：不锈钢反应腔室，含样品台，高度＜50mm
真空系统：含油泵、真空计（全量程规）
气体流量控制系统：含高精度进口流量计（两路氮气）
控制系统：含硬件控制器、温度控制器和工艺过程控制软件，一键停止
操作电脑：预装windows系统和工艺过程控制软件的笔记本电脑一台
前驱体源输运系统：每路配一套50ml钢瓶、一个气动阀和一个手动阀
机架：铝型材机架，喷漆面板
其他：含取样夹具等标准附件
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